BMF получила патент США на технологию оптической системы с двойным разрешением



Компания Boston Micro Fabrication (BMF) получила патент США на свою оптическую систему с двойным разрешением — ключевой элемент технологии, лежащей в основе принтера microArch D1025 этой компании.

Патент (патент США № 12,420,486 B2) называется «Многомасштабные системы для проекционной микростереолитографии». Устройство microArch D1025 от BMF — первая машина, в которой реализована концепция двойного разрешения.

По данным BMF, оптическая система с двойным разрешением обеспечивает быструю и высококачественную 3D-печать на больших площадях печати благодаря интеграции нескольких проекционных линз с различными разрешениями (например, 10 и 25 микрон) в один оптический путь. По словам компании, это позволяет принтеру переключаться между разрешениями по запросу и обеспечивать более оптимальную детализацию, производительность и точность.

Получив патент, компания BMF считает, что потенциал её технологии микро3D-печати расширился в секторах медицинского оборудования, электроники, фотоники и микрофлюидики. Благодаря автоматическому распределению 10-микронных экспозиций для критически важных элементов и 25-микронных экспозиций для более крупных областей, BMF полагает, что её технология обеспечит более быструю сборку и стабильную микронную точность для сложных геометрических объектов.

«Этот патент укрепляет наше лидерство в области сверхточного аддитивного производства», — заявил Джон Кавола, генеральный директор BMF. «Архитектура с двойным разрешением обеспечивает уникальное сочетание скорости и точности, позволяя инженерам изготавливать микродетали как со сложными мелкими деталями, так и с более крупными геометрическими формами за один отпечаток».

«microArch D1025 воплощает нашу миссию — расширить границы возможного в микромасштабе», — добавил доктор Чунгуан Ся, соучредитель и технический директор BMF. «Эта система с двойным разрешением — не только крупный прорыв в области оптики, но и платформа, которая позволит создавать микроустройства нового поколения».

Доктор Ся и доктор Цзявэнь Сюй являются изобретателями патента, который был передан компании BMF Material Technology Inc. из Шэньчжэня, Китай, материнской компании BMF.

Источник

 

Внимание!
Принимаем к размещению новости, статьи или пресс-релизы
со ссылками и изображениями. info@additiv-tech.ru

 

rss