Mechnano анонсировала высокопрочный фотополимер Tough ESD с антистатическими свойствами



Американская компания Mechnano предлагает композиционную фотополимерную смолу Tough ESD с наполнителем из углеродных нанотрубок, обеспечивающих повышенную прочность и антистатические свойства.

 

Новый композиционный материал основан на фирменной антистатической смоле под обозначением Formula1. Подробные технические характеристики и стоимость Tough ESD пока не указываются, но если Formula1 создавалась с расчетом на изготовление жестких экранирующих деталей для электронной техники, в Tough ESD упор сделан на повышение ударной стойкости и прочности на разрыв с сохранением антистатических свойств. Предел прочности при изгибе ниже — 33,19 МПа вместо 97,4 МПа, зато относительное удлинение при разрыве выросло с 3,8% до 42,9%.

Новый фотополимер совместим с лазерными (SLA), проекторными (DLP) и ЖК-масочными (MSLA) стереолитографическими 3D-принтерами c длиной волны в диапазоне 355-415 нм. Смолы изготавливаются по проприетарной технологии Mech T, позволяющей добиваться равномерного распределения углеродных нанотрубок по всему объему материала без комкования. Компания утверждает, что за счет таких добавок прочность на разрыв повышается на 8%, ударная прочность вырастает вдвое, а модуль Юнга прибавляет 850%.

Предприятие планирует развивать технологию в сторону обеспечения электрической проводимости и антирадиационных свойств. Дополнительная информация доступна на официальном сайте Mechnano.

Источник

 

 

Внимание!
Принимаем к размещению новости, статьи или пресс-релизы
со ссылками и изображениями. info@additiv-tech.ru

 

rss